特許

J-GLOBAL ID：200903082338400510

マスクの製造方法、このマスクを用いた光学素子の製造方法、光学素子の製造方法、この製造方法により製造された光学素子を用いた露光装置の製造方法及び収差測定装置の製造方法

発明者： 長山 匡
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 藤本 芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-392053
公開番号（公開出願番号）：特開2002-202583
出願日： 2000年12月25日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】 量産性の高い光学素子の製造方法を提供することである。【解決手段】 マスクを投影系の物体面に設定するマスク設定工程(S20)と、感光性光学材料をステージ上に設定する基板設定工程(S21)と、ステージを移動させることにより感光性光学材料の表面を投影系の最良結像位置から所定量Dだけデフォーカスさせるデフォーカス工程(S22)と、マスクのパターン形状を感光性光学材料上に露光する露光工程(S23)と、露光工程により露光された感光性光学材料を現像する現像工程(S24)と、現像工程により現像された感光性光学材料をエッチングするエッチング工程(S25)とを備える。

請求項（抜粋）：

光学素子を製造するためのマスクの製造方法において、投影系のデフォーカス位置において形成される前記マスクのパターン像に関する像強度分布を光学素子の仕様に基づいて求める像強度分布決定工程と、前記マスクに形成されるべきパターン形状及び前記投影系のデフォーカス量を考慮して前記投影系の像強度分布をシミュレーションするシミュレーション工程と、前記シミュレーション工程のシミュレーション結果に基づいて前記マスクのパターン形状を決定するパターン形状決定工程とを含むことを特徴とするマスクの製造方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G02B 3/00 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 A ,  G02B 3/00 A ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 D

Fターム (16件)：

2H095BB01 ,  2H097BA01 ,  2H097LA17 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DB11 ,  5F046DC12