特許

J-GLOBAL ID：200903082343578050

セラミックス多孔質皮膜及びその製造方法

発明者： 村上 春彦
出願人/特許権者： スズキ株式会社
代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-268011
公開番号（公開出願番号）：特開2001-089144
出願日： 1999年09月22日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
要約：

【要約】【課題】 安定的にジルコニウムを含むセラミックス多孔質皮膜を製造することができ、コスト的にも有利であるセラミックス多孔質皮膜の製造方法を提供する。【解決手段】 硝酸ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、ジルコニウムアセチルアセトネート、カプリル酸ジルコニウムから選ばれるジルコニウム化合物と、ケイ素のアルコキシドとを使用するジルコニア-シリカ複合皮膜を含むセラミックス多孔質皮膜の製造方法等、アルコキシドと硝酸ジルコニウム等を使用するジルコニアを含むセラミックス多孔質皮膜の製造方法を提供する。また、この方法を使用して得られるジルコニアを含む多孔質皮膜を提供する。

請求項（抜粋）：

硝酸ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、ジルコニウムアセチルアセトネート、カプリル酸ジルコニウムから選ばれるジルコニウム化合物と、アルコキシドとを溶媒中に溶解してゾルを得るステップと、得られたゾルを基材に塗布するステップと、ゾルを塗布した基材を熱処理するステップとを含むセラミックス多孔質皮膜の製造方法。

IPC (2件)：

C01G 25/02 ,  C04B 35/48

FI (2件)：

C01G 25/02 ,  C04B 35/48 Z

Fターム (15件)：

4G031AA12 ,  4G031BA18 ,  4G031BA26 ,  4G031BA27 ,  4G031CA08 ,  4G031GA02 ,  4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AB05 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AD10 ,  4G048AE05 ,  4G048AE07 ,  4G048AE08