特許
J-GLOBAL ID：200903082347999280
はんだマスク形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177411
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340931
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 はんだマスクを形成するための方法を提供することを目的とする。【解決手段】 複数のボンディング・パッド102aを有する複数のワイヤ102を備える基板100を準備する段階と、第1のはんだレジスト層を形成して、複数のワイヤ102と基板100とを覆う段階と、第1のはんだレジスト層の一部を除去して、複数のワイヤ102を露出する段階と、第2のはんだレジスト層を形成して、複数のワイヤ102及び残留した第1のはんだレジスト層とを覆う段階と、第2のはんだレジスト層の一部を除去して、複数のボンディング・パッド102aを露出させる段階とを備えるはんだマスクを形成するための方法。
請求項（抜粋）：
複数のボンディング・パッドを有する複数のワイヤを備える基板を準備する段階と、第1のはんだレジスト層を形成して、前記複数のワイヤと前記基板とを覆う段階と、前記第1のはんだレジスト層の一部を除去して、前記複数のワイヤを露出する段階と、第2のはんだレジスト層を形成して、前記複数のワイヤ及び残留した前記第1のはんだレジスト層とを覆う段階と、前記第2のはんだレジスト層の一部を除去して、前記複数のボンディング・パッドを露出する段階と、を備えるはんだマスクを形成するための方法。
Fターム (2件)：
引用特許：
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