特許

J-GLOBAL ID：200903082358667203

地下浄化壁及びその形成方法

発明者： 藤井 義生
出願人/特許権者： 成幸工業株式会社
代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-289551
公開番号（公開出願番号）：特開2000-120061
出願日： 1998年10月12日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 有害物質を含んだ地下水を地下において効果的に浄化することができることができる。【解決手段】 地盤1に形成された掘削孔2に微生物が生息する多孔質の骨材3を充填することで通水性を有する壁部4が形成されている。

請求項（抜粋）：

地盤に形成された掘削孔に微生物が生息する多孔質の骨材を充填することで通水性を有する壁部が形成されていることを特徴とする地下浄化壁。

IPC (2件)：

E02D 5/18 101 ,  C02F 3/06 ZAB

FI (2件)：

E02D 5/18 101 ,  C02F 3/06 ZAB

Fターム (11件)：

2D049EA15 ,  2D049FB06 ,  2D049GA17 ,  2D049GC04 ,  2D049GD08 ,  4D003AA01 ,  4D003BA07 ,  4D003EA01 ,  4D003EA19 ,  4D003EA24 ,  4D003FA06