特許

J-GLOBAL ID：200903082367843570

基板検査装置およびこれを備えた基板検査システム並びに基板検査装置の制御方法

発明者： 長 濱 一郎太 ,  山 崎 裕一郎 ,  永 井 隆 光 ,  三 好 元 介
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-200502
公開番号（公開出願番号）：特開2000-028688
出願日： 1998年07月15日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】 一次電子ビームの照射領域を確保しつつ、二次電子ビームの倍率色収差を抑制することができる基板検査装置およびこれを備えた検査システム並びに基板検査装置の制御方法を提供する。【解決手段】 略矩形の電子ビームを用いた基板の検査装置90において、第三レンズ23および第四レンズ24を二次光学系レンズ制御部55,56により制御してカソードレンズ21および第二レンズ22で形成する結像光学系105と共役なテレセントリック系である結像光学系75を形成し、相互に共役な焦点面8,9に開き角絞りを配設する。開き角絞りとして、圧電素子を用いた駆動機構に各々接続され、長軸方向で平行に配設された2枚の矩形平板を各々有し、この矩形平板の対向する辺のエッジで形成する絞り幅が調整可能な可動矩形絞り91,92を用いる。可動矩形絞り91は、その長軸が一次電子ビーム5の断面形状の長軸と同一の方向となり、可動矩形絞り92の長軸と直交するように配設する。

請求項（抜粋）：

試料である基板に電子ビームを一次電子ビームとして照射する一次電子ビーム照射手段と、前記一次電子ビームは、その入射角度を変化させて前記基板の表面に垂直に入射させ、前記一次電子ビームの照射を受けて前記基板から発生した二次電子および反射電子を含む二次電子ビームは、取込み角度のまま通過させる電子ビーム偏向手段と、前記電子ビーム偏向手段を含み、前記二次電子ビームを制御して結像させるとともに、その結像光学系が焦点の前後でビーム軸に平行に進行する領域を形成する相互に共役なテレセントリック系をなすように前記二次電子ビームを制御する複数の写像投影手段と、最後段の前記写像投影手段により結像された前記二次電子ビームを検出し、画像信号として出力する電子ビーム検出手段と、二段目以後の前記写像投影手段内の前記焦点を通り前記二次電子ビームのビーム軸に垂直な平面である焦点面に配設され、前記二次電子ビームの開き角を決定する第一の開き角絞りと、前記電子ビーム検出手段から前記画像信号の供給を受けて、前記基板の表面の物理的・電気的状態を表す画像を表示する画像表示手段とを備えた基板検査装置。

IPC (4件)：

G01R 31/302 ,  G01N 23/20 ,  G01N 23/225 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01R 31/28 L ,  G01N 23/20 ,  G01N 23/225 ,  H01L 21/66 J

Fターム (27件)：

2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA13 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA04 ,  2G001JA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001SA02 ,  2G001SA04 ,  2G032AD08 ,  2G032AF08 ,  2G032AK03 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106BA02 ,  4M106DE03 ,  4M106DE04 ,  4M106DE05 ,  4M106DE11 ,  4M106DE12 ,  4M106DE20 ,  4M106DE21