特許
J-GLOBAL ID：200903082387951204
透明導電膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 静男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-334732
公開番号（公開出願番号）：特開平6-187832
出願日： 1992年12月15日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【目的】 ITO膜よりも耐湿性に優れた透明導電膜の製造方法を提供する。【構成】 インジウム化合物と亜鉛化合物とをInとZnの原子比がIn/Zn=1/1〜1/10になる割合で、アルカノールアミンの存在下に溶解させてコーティング溶液を調製し、このコーティング溶液を基板に塗布して焼成した後、還元処理することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
一般式 In2 O3 (ZnO)m (m=2〜20) で表される六方晶層状化合物からなることを特徴とする透明導電膜。
IPC (4件)：
H01B 5/14
, C30B 29/22
, G02F 1/1343
, H01B 13/00 503
