特許
J-GLOBAL ID：200903082388732166
加速度センサ及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大岩 増雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-167337
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357619
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：
【要約】【課題】 低コストで容易に製造することができ、且つ信頼性の高い加速度センサ及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板表面に互いに平行に並んでいる複数の第1棒状パターンを有する固定電極50と、複数の各第1棒状パターンのそれぞれと所定距離を隔てて対向する複数の第2棒状パターンを有する可動電極40と、この可動電極40に結合された変位可能な質量部材31とを備えた加速度センサにおいて、質量部材31がポリイミド薄材2を主体として構成されているので、ポリシリコン膜を用いた従来構造に比べ短時間で容易に製造でき、工期の短縮化及び低コスト化が図られる。また、ポリイミド薄材2の一対の主表面2a、2b上に平坦化膜である窒化シリコン膜3a、3bを設け、上記薄材2の反りを抑制したので、可動電極40と固定電極50の相対位置及び距離を正確に形成でき、信頼性が向上する。
請求項（抜粋）：
基板表面上に互いに平行に並んでいる複数の第1棒状パターンを有する固定電極と、前記複数の各第1棒状パターンのそれぞれと所定距離を隔てて対向するようにして前記基板表面上に互いに平行に並んでいる複数の第2棒状パターンを有する可動電極と、前記基板表面上に配置され前記可動電極に結合されて前記可動電極とともに変位可能な質量部材とを備え、前記質量部材は前記基板表面上に設けられたポリイミド薄材及びこのポリイミド薄材の前記基板表面とほぼ平行な一対の主表面上にそれぞれ設けられた窒化シリコン膜を有することを特徴とする加速度センサ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01P 15/125
, H01L 29/84 Z
4M112AA02
, 4M112BA07
, 4M112CA03
, 4M112CA04
, 4M112CA11
, 4M112DA02
, 4M112DA06
, 4M112EA03
, 4M112EA07
, 4M112EA11
, 4M112EA14
, 4M112FA20
