ガス循環処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-400833
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203791
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】処理ガスを効率よくチャンバー等に供給することが可能なガス循環処理装置を提供する。【解決手段】処理ガスを導入して所定の処理を行う処理部11と、処理部に処理ガスを供給するガス供給配管23と、処理部からのガスを排気する第1の排気部15と、1の排気部からのガスを外部に排気する第2の排気部16と、第1の排気部の背圧を調整する背圧調整部17と、第1の排気部から排出された処理ガスの一部をガス供給配管から供給される処理ガスに合流させるガス循環配管21と、ガス供給配管からのガスとガス循環配管からのガスとが合流する合流部22に接続され、合流したガスを処理部に導入するガス導入配管24とを備え、合流部近傍においてガス供給配管の内径よりもガス導入配管の内径の方が大きい。

請求項（抜粋）：

処理ガスを導入して所定の処理を行う処理部と、前記処理部に処理ガスを供給するガス供給配管と、前記処理部からのガスを排気する第1の排気部と、前記第1の排気部からのガスを外部に排気する第2の排気部と、前記第1の排気部と第2の排気部との間に設けられ、前記第1の排気部の背圧を調整する背圧調整部と、前記第1の排気部から排出された処理ガスの一部を前記ガス供給配管から供給される処理ガスに合流させるガス循環配管と、前記ガス供給配管からのガスと前記ガス循環配管からのガスとが合流する合流部に接続され、合流したガスを前記処理部に導入するガス導入配管とを備え、前記合流部近傍において前記ガス供給配管の内径よりも前記ガス導入配管の内径の方が大きいことを特徴とするガス循環処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 , C23C 16/455 , F17D 1/02 , H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/205 , C23C 16/455 , F17D 1/02 , H01L 21/302 N

Fターム (31件)：

3J071AA02 , 3J071BB14 , 3J071CC01 , 3J071FF11 , 4K030EA12 , 5F004AA15 , 5F004BA03 , 5F004BA04 , 5F004BB13 , 5F004BB14 , 5F004BC03 , 5F004BC04 , 5F004BD04 , 5F004CA01 , 5F004DA02 , 5F004DA25 , 5F004DA26 , 5F004DB03 , 5F045AA08 , 5F045AA09 , 5F045BB20 , 5F045EB06 , 5F045EC07 , 5F045EC08 , 5F045EG02 , 5F045EG03 , 5F045EG09 , 5F045EH05 , 5F045EH14 , 5F045EH18 , 5F045GB06

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