特許
J-GLOBAL ID:200903082400308405

マスク洗浄機

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-045120
公開番号(公開出願番号):特開平5-241329
出願日: 1992年03月03日
公開日(公表日): 1993年09月21日
要約:
【要約】【目的】レチクル洗浄機における洗浄歩留の改善と洗浄時間の短縮。【構成】レチクル上の異物を検査する検査室3と異物分析処理部4と洗浄パラメータシーケンス自動設定部5と備え、異物情報により洗浄シーケンス及び洗浄パラメータの最適化を自動的に行なう機能を有する。
請求項(抜粋):
マスクの洗浄において、洗浄前のマスク異物付着状態を解析し、マスクの洗浄シーケンスおよび洗浄パタメータの最適化を行う機能を有するマスク洗浄機。
IPC (3件):
G03F 1/08 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/304 341
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭59-195645
  • 特開平2-135486
  • 特開平3-168185

前のページに戻る