特許
J-GLOBAL ID：200903082400482057
プラズマ膜堆積装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-327761
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177114
出願日： 1992年12月08日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 高周波電極の交換が容易でかつ交換のサイクルが長くなり、さらには消耗品としてこの高周波電極自体が安価となり、また高周波電極に印加された高周波の影響を全く受けずに高周波電極を加熱及び測温できるプラズマ膜堆積装置を提供することを目的とする。【構成】 高周波電極を加熱する手段として光ビーム発生源で発生させた光ビームを高周波電極に非接触の光ファイバーで伝送するという構成としたことにより、高周波電極の交換が容易に行え、かつ高周波電極自体が安価となり、さらには高周波電極でのリーク発生が皆無となり高周波電極の交換サイクルが長くなった。また高周波電極に印加された高周波の影響を受けることなく安定した加熱が可能となる。
請求項（抜粋）：
反応ガス導入部と真空排気口を有する反応室と、前記反応室内に基板を載置し加熱するための加熱機構を有する基板台と、前記基板台に対向した位置に配置され前記反応ガス導入部から導入された反応ガスを前記反応室内に供給する構造を有した高周波電極と、前記高周波電極に高周波を印加するための高周波印加手段と、前記高周波電極を加熱するための光ビーム発生源と光ファイバーとからなり、前記光ビーム発生源で発生した光ビームを前記光ファイバーで伝送して前記高周波電極を加熱することを特徴とするプラズマ膜堆積装置。
IPC (2件)：
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