特許

J-GLOBAL ID：200903082402086396

表面処理剤、薄膜製造方法、薄膜を備えた基材および太陽電池パネル

発明者： 大谷 強 ,  神谷 和孝 ,  辻野 敏文 ,  平田 昌宏
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社
代理人 (1件)： 大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-358588
公開番号（公開出願番号）：特開2002-161262
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月04日
要約：

【要約】【課題】 基材の表面を改質するための薄膜を形成するに際して、高温での加熱焼成を必要としない表面処理剤、およびその処理剤からなる薄膜を備えた基材を提供する。さらには、この薄膜を反射防止膜として利用する基材がガラス板である太陽電池パネルを提供する。【解決手段】 (A)シリコンアルコキシド(シリカ換算):0.01〜3重量%、(B)酸:0.02〜1N、(C)水:0〜8重量%を含有する表面処理剤。

請求項（抜粋）：

(A)シリコンアルコキシド(シリカ換算):0.01〜3重量%、(B)酸:0.02〜1N、(C)水:0〜8重量%を含有する表面処理剤。

IPC (8件)：

C09K 3/00 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  B32B 17/06 ,  C03C 17/25 ,  C09D183/04 ,  G02B 1/11 ,  H01L 31/04

FI (8件)：

C09K 3/00 R ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  B32B 17/06 ,  C03C 17/25 A ,  C09D183/04 ,  G02B 1/10 A ,  H01L 31/04 F

Fターム (32件)：

2K009AA02 ,  2K009AA12 ,  2K009CC09 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  4F100AA01A ,  4F100AA40A ,  4F100AB11A ,  4F100AG00B ,  4F100AH06A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100CA30A ,  4F100DE01A ,  4F100EJ64A ,  4F100GB90 ,  4F100JM02A ,  4F100JN06 ,  4G059AA01 ,  4G059AC04 ,  4G059AC16 ,  4G059EA05 ,  4G059EB07 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038HA446 ,  4J038PC03 ,  5F051CB13 ,  5F051GA03 ,  5F051HA03 ,  5F051HA04 ,  5F051HA07