特許
J-GLOBAL ID：200903082406273948
ホログラム顔料の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-143164
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327945
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：
【要約】【課題】 耐傷付き性を有しかつ光輝性も有するホログラム顔料を提供する。【解決手段】 基材10の両面に第1樹脂層12a,12bを形成し(ステップ101)、乾燥後針20により、第1樹脂層12a,12bの上面に複数のスリット22を形成する(ステップ102)。更に、第1樹脂層12a,12bを硬化させた後、2枚のエンボスパターン原版30をそれぞれ第1樹脂層12a,12bの表面に加圧して、エンボスパターンを形成する(ステップ103)。その後、焼成して第1樹脂層12a,12bを硬化させた後、エンボス加工表面に、真空蒸着法などによりそれぞれ金属薄膜の金属反射層を形成する。更に、金属反射層の表面にそれぞれ、第2樹脂層を形成し、基材10上順次積層された第1樹脂層12a、金属反射層、第2樹脂層からなるホログラム形成シートを焼成し、硬化させた後、基材10から剥離し粉砕して、ホログラム顔料40を得る。
請求項（抜粋）：
基材上に樹脂層を積層する工程と、前記樹脂層上に複数のスリットを形成する工程と、前記樹脂層上のスリット形成面にホログラムの微小凹凸形状を形成する工程と、前記樹脂層の微小凹凸形成面に金属反射層を形成し、前記樹脂層上に前記金属反射層が積層されたホログラム形成シートを作成する工程と、前記ホログラム形成シートを前記基材から剥離し、剥離された前記ホログラム形成シートを粉砕する工程と、を有することを特徴とするホログラム顔料の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
2K008AA00
, 2K008FF12
, 2K008FF13
, 2K008FF14
, 2K008GG05
, 4J037AA04
, 4J037CB28
, 4J037CC15
, 4J037EE23
, 4J037EE29
, 4J037FF02
