特許

J-GLOBAL ID：200903082408961604

メソ構造体およびその製造方法

発明者： 小川 美紀
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 山下 穣平 ,  志村 博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-291528
公開番号（公開出願番号）：特開2005-060160
出願日： 2003年08月11日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：

【課題】高い構造規則性と結晶性細孔壁を兼ね備え、より電気伝導性に優れたメソ構造体薄膜を提供する。【解決手段】スズ化合物、アンチモン化合物、界面活性剤を含有する反応溶液、又はスズ化合物、フッ素化合物、界面活性剤を含有する反応溶液、又はインジウム化合物、スズ化合物、界面活性剤を含有する反応溶液を用意する工程、前記反応溶液を基板上に付与する工程、及び、該基板を、水蒸気を含む雰囲気中に保持する工程を経て、メソ構造体を製造する。前記基板を、水蒸気を含む雰囲気中に保持する工程を100°C以下で実施することが好ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

部材中に界面活性剤の集合体が規則性を持って配置されたメソ構造体において、該部材が酸化スズを主成分として、アンチモン、フッ素のうち少なくとも一種を含む、もしくは酸化インジウムを主成分としてスズを含み、且つ、部材中に酸化物の結晶を含むことを特徴とするメソ構造体。

IPC (4件)：

C01G19/02 ,  B01J20/06 ,  B01J20/28 ,  C01G19/00

FI (4件)：

C01G19/02 A ,  B01J20/06 B ,  B01J20/28 Z ,  C01G19/00 A

Fターム (15件)：

4G066AA19A ,  4G066AA19B ,  4G066AA21B ,  4G066AA31A ,  4G066AA37A ,  4G066AA37B ,  4G066AB05D ,  4G066AB06D ,  4G066AC21D ,  4G066AC22D ,  4G066BA03 ,  4G066BA22 ,  4G066BA32 ,  4G066FA33 ,  4G066FA34