特許
J-GLOBAL ID：200903082419173837
酢酸エチルの製法とその製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-159730
公開番号（公開出願番号）：特開平7-017907
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：
【要約】【目的】 エチレンと酢酸とを気相で接触反応させて酢酸エチルを製造する際、副反応を抑制し、酢酸エチルを高効率、高収率で製造する製法、および安価で保守管理の容易な上記酢酸エチルの製造装置を得る。【構成】 エチレンと酢酸とを含む混合ガス1を、気相で、ヘテロポリ酸またはヘテロポリ酸塩からなる固体触媒を含む少なくとも2段の直列する断熱触媒層4、14、24に順次流通させて反応せしめ、かつ、前後する2段の断熱触媒層4-14(または14-24)の間に冷却部12(または22)を設け、前段で反応熱によって昇温した混合ガスをこれによって冷却した上で後段に流通する。
請求項（抜粋）：
酢酸エチルを製造するに際して、エチレンと酢酸とを含む混合ガスを、気相で、ヘテロポリ酸またはヘテロポリ酸塩からなる固体触媒を含む少なくとも2段の直列する断熱触媒層に順次流通させて反応せしめ、かつ、上記の前後する2段の断熱触媒層の間に冷却部を設け、前段の断熱触媒層における反応熱によって昇温した混合ガスを、この冷却部で冷却した上で後段に流通することを特徴とする酢酸エチルの製法。
IPC (4件)：
C07C 69/14
, B01J 27/188
, C07C 67/05
, C07B 61/00 300
