特許

J-GLOBAL ID：200903082430826680

液晶/高分子複合型光学素子の製造方法

発明者： 前田 博己 ,  進藤 忠文 ,  宮之脇 伸
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-085962
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101375
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【目的】 電圧印加時のヘイズが少なく光透過性に優れると共に、駆動電圧が低い液晶/高分子複合型液晶光学素子を提供すること。【構成】 少なくとも一方が透明な2枚の導電性基板で、或いは導電性基板と保護層で液晶を高分子マトリックス中に分散した液晶/高分子複合膜を挟持してなる液晶/高分子複合型光学素子の製造方法において、液晶或いはマイクロカプセル化された液晶が分散しているエマルジョンを、一方の導電性基板に塗布した後に、エマルジョン塗布膜面に強磁場を垂直方向に加えながら乾燥を行う工程を含むことを特徴とする液晶/高分子複合型光学素子の製造方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも一方が透明な2枚の基板間に、液晶を高分子マトリックス中に分散した液晶/高分子複合膜を挟持してなる液晶/高分子複合型光学素子の製造方法において、液晶或いはマイクロカプセル化された液晶が分散している高分子のエマルジョンを、一方の基板に塗布した後に、エマルジョン塗布膜面に強磁場を垂直方向に加えながら乾燥を行う工程を含むことを特徴とする液晶/高分子複合型光学素子の製造方法。