シリコンウェハーの洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-112980
公開番号（公開出願番号）：特開平7-321080
出願日： 1994年05月26日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：

【要約】【目的】シリコンウエハーを硫酸または塩酸を含む洗浄液で洗浄した後でも、金属の付着が抑制された高清浄度のシリコンウエハーを得ることができる洗浄方法を提供すること。【構成】シリコンウェハーを硫酸または塩酸を含む洗浄液、たとえば硫酸と過酸化水素水の混合液(SPM)または塩酸と過酸化水素水と超純水からなる混合液(HPM)で洗浄した後、フッ酸と硝酸を含む水溶液で処理する。

請求項（抜粋）：

シリコンウェハーを硫酸または塩酸を含む洗浄液で洗浄した後に、フッ酸と硝酸を含む水溶液で処理することを特徴とするシリコンウェハーの洗浄方法。

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