特許

J-GLOBAL ID：200903082439828430

スチリル基を置換基として含むラダー型シルセスキオキサン化合物およびその製造方法

発明者： 岡田 賢治 ,  津村 学 ,  岩原 孝尚
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-276085
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088157
出願日： 2000年09月12日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、力学特性向上に有用な新規なケイ素化合物である、スチリル基を置換基として含むシルセスキオキサン化合物、及び、その製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 組成式がRSiO1.5(Rは、複数の1価の有機基を表し、そのうちの1種類がスチリル基を表す)で示されるシルセスキオキサン化合物。CH2=CH-C6H4-SiX3(Xは、同一又は異なって、加水分解性基を表す)と、R′SiX′3(R′は、スチリル基以外の1価の有機基を表す。X′は、同一又は異なって、加水分解性基を表す)とを共加水分解する、スチリル基を置換基として含むシルセスキオキサン化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

組成式がRSiO1.5(式中、Rは、複数の1価の有機基を表し、そのうちの1種類がスチリル基を表す。)で示されることを特徴とするシルセスキオキサン化合物。

IPC (2件)：

C08G 77/20 ,  C08G 77/06

FI (2件)：

C08G 77/20 ,  C08G 77/06

Fターム (8件)：

4J035BA12 ,  4J035CA13N ,  4J035CA131 ,  4J035LB01 ,  4J035LB02 ,  4J035LB03 ,  4J035LB17 ,  4J035LB20

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 有機官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法及び前記製造方法から得られるオルガノポリシロキサン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-272000   出願人：信越化学工業株式会社
• 特開平4-161435
  
• 反応性ポリメチルシルセスキオキサン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-217740   出願人：昭和電工株式会社
• シリコーン樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-146180   出願人：東芝シリコーン株式会社
• 特開昭56-151731