特許

J-GLOBAL ID：200903082446998961

溶液製膜方法

発明者： 中村 敏和 ,  片井 幸祐
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 田中 政浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-193446
公開番号（公開出願番号）：特開2001-018241
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】 厚みムラの小さいフィルムを製造でき、その結果、各種機能層を塗布しても塗布ムラが発生しないフィルムを製造できる溶液製膜方法を提供する。【解決手段】 1は流延ダイ、2は支持体(流延バンド)、3は減圧チャンバーで、4は流延ダイ1から支持体(流延バンド)2に流延されているリボンである。このような溶液製膜装置において、i)流延ダイ1と支持体(流延バンド)2との距離h、ii)減圧チャンバーの吸引圧力p、iii)ドープ(リボン4)粘度μ、iv)流延ダイ1のダイリップクリアランスcl、v)流延速度(流延バンド2の速度)v、vi)ベースの厚さt等を調整し、リボンの長さを3〜40mmに制御して製膜を行う。

請求項（抜粋）：

有機溶媒に溶かしたポリマー溶液をダイから支持体上に流延する時、リボン(ダイ吐出口から支持体着地までの間の液膜)の長さを3〜40mmに制御することを特徴とする溶液製膜方法。

IPC (5件)：

B29C 41/28 ,  B05D 1/26 ,  C08J 7/04 ,  C08J 5/18 ,  B29K 1:00

FI (4件)：

B29C 41/28 ,  B05D 1/26 Z ,  C08J 7/04 Z ,  C08J 5/18

Fターム (30件)：

4D075AC04 ,  4D075DA04 ,  4D075DC24 ,  4D075DC27 ,  4F006AA00 ,  4F006AB03 ,  4F006AB63 ,  4F006AB64 ,  4F006BA00 ,  4F006CA03 ,  4F006DA00 ,  4F071AA01 ,  4F071AC03 ,  4F071AC05 ,  4F071AC15 ,  4F071BC02 ,  4F205AA01 ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205AH73 ,  4F205AR12 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC01 ,  4F205GC07 ,  4F205GF01 ,  4F205GF24 ,  4F205GF30 ,  4F205GF47 ,  4F205GN24

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-052721
  
• セルローストリアセテートフィルムの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-313417   出願人：コニカ株式会社
• 特開昭63-254136