フォトレジスト塗布装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-326998
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172881
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】フォトレジストにゲルを発生させ難く、かつ発生したゲルは容易に洗浄し得るフォトレジスト塗布装置を提供すること。【解決手段】フォトレジストガロン瓶21から三方弁13、ポンプ3、フィルターユニット4、三方弁14を経て塗布ノズル5に至る供給用配管2について、三方弁14から直接に三方弁13へ戻る循環用配管8を設ける。また、ポンプ3には高い粘度のフォトレジストに対しても所定の流速を維持し得るように調整可能なものを取り付け、フィルターユニット4には流路を流線形としたものを取り付けると共に、洗浄溶剤ガロン瓶22を汲み込む。そして塗布停止時にはフォトレジストを三方弁13、ポンプ3、フィルターユニット4、三方弁14から循環用配管8を経て三方弁13へ戻る環状ラインを循環させてフォトレジストを停滞させない。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト供給源からポンプおよびフィルターユニットを経由し塗布ノズル取付け部へ至る供給用配管に対して、前記塗布ノズルの取付け部から前記フォトレジスト供給源、または該フォトレジスト供給源に近接した箇所の前記供給用配管に接続して戻される循環用配管が設置されており、前記フォトレジストの塗布停止時、または塗布停止時と塗布時との両時において、前記フォトレジストが前記供給用配管および前記循環用配管を循環されることを特徴とするフォトレジスト塗布装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , G03F 7/16 502

FI (4件)：

H01L 21/30 564 C , B05C 11/08 , B05C 11/10 , G03F 7/16 502

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