特許
J-GLOBAL ID：200903082476638498
荷電ビーム描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-054401
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267834
出願日： 1993年03月15日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 キャラクタプロジェクション方式の利点を最大限に活用し、描画時間の短縮をはかり得る荷電ビーム描画方法を提供すること。【構成】 試料を載置したステージを連続移動しながら、該試料上に荷電ビームを照射して所望のパターンを描画する荷電ビーム描画方法において、試料上の繰り返しパターン領域をキャラクタプロジェクション方式により描画する際に、繰り返しの最小単位がそのままで最大キャラクタサイズより大きい場合には該サイズより小さくなるように最小単位を変更し、繰り返しの最小単位の形状がそのままでは物理的にアパーチャ上に形成不可能な場合は、形成可能となるように最小単位を変更した描画データを用いて描画することを特徴とする荷電ビーム描画方法。
請求項（抜粋）：
試料上に荷電ビームを照射して該試料上に所望のパターンを描画する荷電ビーム描画装置において、可変成形ビーム方式と繰り返しパターンの少なくとも最小単位となる図形の形状を電子光学系の成形アパーチャに形成しておき、繰り返しパターンの領域では該アパーチャに形成した該最小単位となる図形の形状を用いて描画するキャラクタプロジェクション方式を具備し、該最小単位の外枠の形状が矩形の場合は、そのまま該アパーチャに形成しておき、所望のパターンを描画し、該最小単位の図形の外枠の形状が矩形でない場合は、該繰り返しパターンの最小単位の外枠の形状が矩形となるように最小単位を変更し、その最小単位図形を該アパーチャに形成して、所望のパターンを描画した場合に生じる過不足分のパターンの処理を繰り返しパターンに隣接するパターンで処理するように設計したパターンデータを用いて描画することを特徴とする荷電ビーム描画方法。
引用特許：
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