特許
J-GLOBAL ID：200903082476905313
レーザ加工機に対するアシストガス供給方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-125140
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328787
出願日： 1994年06月07日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 空気中の酸素と窒素とを分離する分離装置から得られる窒素リッチガスの純度を常に所定範囲の純度に保持して供給する方法及び装置を提供することである。【構成】 本発明の方法は、空気中の窒素と酸素とを分離する分離装置へ圧縮空気を供給する(a)工程と;上記分離装置によって分離された窒素リッチガスをレーザ加工機のレーザ加工ヘッドへ導くに当り、窒素リッチガスを導く第1導管内の圧力と酸素リッチガスを導く第2導管内の圧力との差圧を、窒素リッチガスの純度が94%〜99.5%の範囲にあるように保持する(b)工程とよりなるアシストガスの供給方法である。また、本発明の装置は、供給された圧縮空気中の窒素と酸素とを分離する分離装置と、この分離装置によって分離された窒素リッチガスをレーザ加工ヘッドへ導く第1の導管と、前記第1の導管に配置された制御弁と、を備えてなるものである。
請求項（抜粋）：
レーザ加工機におけるレーザ加工ヘッドへアシストガスを供給する方法にして、次の各工程よりなることを特徴とするアシストガス供給方法。(a)空気中の窒素と酸素とを分離する分離装置へ圧縮空気を供給する工程、(b)上記分離装置によって分離された窒素リッチガスをレーザ加工機のレーザ加工ヘッドへ導くに当り、窒素リッチガスを導く第1導管内の圧力と酸素リッチガスを導く第2導管内の圧力との差圧を、窒素リッチガスの純度が94%〜99.5%の範囲にあるように保持する工程。
IPC (2件)：
引用特許：
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