特許
J-GLOBAL ID：200903082484599809
シルセスキオキサンコポリマーコーティングの平坦化
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
頓宮 孝一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-040822
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258607
出願日： 1991年02月14日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】アミノアルコキシシランモノマー、アリールアルコキシシランまたはアリールシラザンモノマー及び水を溶媒中で反応させることによって製造された有機溶液を適当な基体に付与すること、そして次に、この溶媒を蒸発しそして硬化したラダータイプのシルセスキオキサンコポリマーの層を生成させるような条件下で、このコートされた基体を加熱することによって、改良された絶縁層が生成される。優れた平坦化及び熱安定性特性を示すこの絶縁層は、特に半導体装置の応用において有用である。
請求項（抜粋）：
アミノアルコキシシランモノマーとアリールアルコキシシランまたはアリールシラザンモノマー及び水を溶媒中で反応させることによって製造された有機溶液を基体に付与すること;及び該溶媒を蒸発しそして硬化したラダータイプのシルセスキオキサンコポリマーの層を生成させるような温度及び時間で、該コートされた基体を加熱すること;のステップから成る、基体の上の絶縁層を生成させる方法。
引用特許：
前のページに戻る
