特許
J-GLOBAL ID：200903082500560489
荷電粒子ビーム露光方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-044473
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254549
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【目的】 露光データレートよりも低い速度でデジタル値を与えて十分な位置精度を得ることが可能な荷電粒子ビーム露光方法及び装置の提供を目的とする。【構成】 本発明の荷電粒子ビーム露光方法及び露光装置は、階段的に変化するデジタル値を副偏向器用デジタル/アナログ変換器10に供給し、デジタル/アナログ変換器10によりデジタル値をアナログ値に変換し、略直線状に変化するようアナログ値を平滑化し、変換されたアナログ値を副偏向器の電圧入力として印加する。
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームの露光される試料の搭載されたステージ(209)を連続的に移動させると共に、主偏向器により該ビームを偏向させ、更に副偏向器(112)によって該主偏向器の偏向領域より小さな領域で少なくとも一回略直線状に偏向させて、該試料上で該ビームを略直線状に走査し、該ビームの各々が該試料上に到達するか到達しないかの露光データの変化を制御し、ICパターンを露光する荷電粒子ビーム露光方法であって、階段的に変化するデジタル値を該副偏向器用デジタル/アナログ変換器(10)に供給する供給ステップと、該デジタル/アナログ変換器(10)により該デジタル値をアナログ値に変換し、略直線状に変化するよう該アナログ値を平滑化する変換ステップと、該変換されたアナログ値を該副偏向器(112)の電圧入力として印加する電圧印加ステップとより成ることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G21K 5/00
, G21K 5/04
