特許

J-GLOBAL ID：200903082515981880

耐高熱性ポジ型レジスト及び耐高熱性レリーフ構造物の製法

発明者： アルベルト ハンマーシユミツト ,  ジークフリート ビルクレ ,  ヘルムート アーネ
出願人/特許権者： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 富村 潔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-139694
公開番号（公開出願番号）：特開平5-197153
出願日： 1992年05月01日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】 貯蔵安定性に関する難点を生じない価格的に有利な耐高熱性ポジ型レジストを提供する。【構成】 ポリベンズオキサゾール前駆体が以下の構造式:【化1】[式中R、R′、R1 、R1 ′及びR2 は芳香族基であり、R3 はアルケニル基又はアルキニル基を少なくとも1個有する脂肪族、脂環式又は芳香族基であり、n1 、n2 及びn3 に関しては以下の通りである。n1 =1〜100、n2 及びn3 =0又はn1 及びn2 =1〜100、n3 =0又はn2 =1〜100、n1 及びn3 =0又はn1 、n2 及びn3 =1〜100(但しR≠R′及び/又はR1 ≠R1 ′)又はn1 及びn3 =1〜100、n2 =0(但しR≠R′及び/又はR1 ≠R1 ′)(但しn1 +n2 +n3 ≧3)]のヒドロキシポリアミドである。

請求項（抜粋）：

オリゴマー及び/又はポリマーのポリベンズオキサゾール前駆体及びジアゾキノンをベースとする耐高熱性ポジ型レジストにおいて、ポリベンズオキサゾール前駆体が以下の構造式:【化1】[式中R、R′、R1 、R1 ′及びR2 は芳香族基であり、R3 はアルケニル基又はアルキニル基を少なくとも1個有する脂肪族、脂環式又は芳香族基であり、n1 、n2 及びn3 に関しては以下の通りである。n1 =1〜100、n2 及びn3 =0又はn1 及びn2 =1〜100、n3 =0又はn2 =1〜100、n1 及びn3 =0又はn1 、n2 及びn3 =1〜100(但しR≠R′及び/又はR1 ≠R1 ′)又はn1 及びn3 =1〜100、n2 =0(但しR≠R′及び/又はR1 ≠R1 ′)(但しn1 +n2 +n3 ≧3)]のヒドロキシポリアミドであることを特徴とする耐高熱性ポジ型レジスト。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 ,  C08L 77/10 LQX ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭64-006947
  
• 特開昭56-027140