特許

J-GLOBAL ID：200903082516756049

ULSI用途のためにシロキサンポリマーで処理されたナノポーラスシリカ

発明者： ルザーフォード,ニコル ,  ラモス,テレサ ,  ウー,ホゥイ-チュン ,  カトサネス,ロン ,  ドレイジ,ジェイムス
出願人/特許権者： アライドシグナル インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-519479
公開番号（公開出願番号）：特表2003-508895
出願日： 2000年08月23日
公開日（公表日）： 2003年03月04日
要約：

【要約】基板上にナノポーラスシリカ誘電体コーティングを形成し、そしてその形成されたナノポーラスシリカ誘電体コーティングをポリマー前駆体を含む被覆組成物でもって被覆し、その際に処理されたナノポーラスシリカ誘電体コーティング上に強度増強及び/または疎水性増強層を形成するのに有効な条件下で被覆を行う工程を含む方法によって、作られる表面被覆付ナノポーラスシリカ誘電体膜。

請求項（抜粋）：

基板上にナノポーラスシリカ誘電体コーティングを形成し、そしてその形成されたナノポーラスシリカ誘電体コーティングをポリマー前駆体を含む被覆組成物でもって被覆し、その際に処理されたナノポーラスシリカ誘電体コーティング上に強度増強及び/または疎水性増強層を形成するのに有効な条件下で被覆を行う工程を含む方法によって、作られる表面被覆付ナノポーラスシリカ誘電体膜。

IPC (2件)：

H01L 21/312 ,  H01L 21/316

FI (2件)：

H01L 21/312 C ,  H01L 21/316 G

Fターム (13件)：

5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AG10 ,  5F058AH02 ,  5F058BA20 ,  5F058BC05 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BH20 ,  5F058BJ02