特許

J-GLOBAL ID：200903082524520852

構造物表面の検査における欠陥の検出方法

発明者： ディートマー コルホーフ ,  ヨアヒム ヴィーネッケ ,  カール-ハインツ フランケ ,  ミヒャエル グレス ,  ハイコ ケンペ
出願人/特許権者： イェノプティック テクノロジー ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-068314
公開番号（公開出願番号）：特開平7-311028
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】良好な構造から欠陥を実時間処理において分離すべく、構造面の総数に左右されることなく構造特性に基づいて欠陥の検出を保証する。【構成】本発明に基づき、画素分類の手段により類似した画素特性を有する記録画像の領域を整理し、エッジ構造及びコーナー構造を有する灰色濃度中間画像を前記の画像から形成し、更に中間画像に含まれる全ての画素の画素特性の作用をその周辺に位置する画素に関連して分析する。本発明の方法はマスク、LCD、印刷回路基板及び半導体ウェハー等の製造における統計的工程管理に主に使用される。

請求項（抜粋）：

構造物表面の特定の画素特性及び構造物表面の記録画像の欠陥を使用して、特にマスク、LCD、印刷回路基板及び半導体ウェハー等の構造物表面の検査の際に欠陥を検出する方法であって、画素分類に基づいて類似した画素特性を有する画像領域を編集し、構造分類に基づいて1つの画素の画素特性の作用をその画素の周囲に位置する画素に関連して分析するようにした方法において、エッジ構造及びコーナー構造を有し、かつ構造分類に使用される灰色濃度中間画像を記録画像の画素分類において形成することを特徴とする方法。

IPC (5件)：

G01B 11/24 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

G06F 15/62 405 A ,  G06F 15/70 330 Z