特許

J-GLOBAL ID：200903082526730889

磁気ディスク装置用保護膜及びその製造方法

発明者： 菊池 暁 ,  北本 善透 ,  渡辺 真 ,  朝倉 紀之
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-187231
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055333
出願日： 1994年08月09日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】 磁気ディスク媒体及び磁気ヘッドの保護層として、耐磨耗性、絶縁性に優れ、製造安定性のあるものを提供する。【構成】 保護膜をスパッタリング法又はCVDで形成して炭素及びケイ素より構成し、かつ水素含有ガス(CH4 ,C2 H2 ,H2 など)雰囲気中でスパッタリング又はCVDを行なう。Si量は3〜30at%,H/C比は0.5以下がよい。

請求項（抜粋）：

磁気ディスク装置におけるディスク媒体又は磁気ヘッドの摺動部に用いられる保護膜であって、該摺動部の基体上に炭素及び珪素を主成分として構成され、珪素含有量が3〜30at%の範囲で形成されてなることを特徴とする磁気ディスク装置用の保護膜。

IPC (4件)：

G11B 5/72 ,  G11B 5/255 ,  G11B 5/60 ,  G11B 5/84