投影露光方法および装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-267181
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120114
出願日： 1992年10月06日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、周期性の有るパターンと無いパターンが混在しているレティクルパターンをウェーハ上に転写する際、いずれのパターンも解像されるよう解像力のバランスのとれた露光方法およびその装置を提供することにある。【構成】レティクルパターンの特徴を表わす情報を得る手段と、該情報に応じて照明光源に設置する絞り(6-1,6-2)を選択する手段(7)とを設け、前記レティクルパターンに最適な照明条件を実現することにより達成される。【効果】転写すべきパターンを構成するパターン群の特徴を表わす情報を用いて、最適な露光条件を選択するので、すべてのパターンに対して解像力のバランスのとれたパターン転写ができるという効果がある。

請求項（抜粋）：

光、真空紫外領域あるいはX線領域のビームを放射する光源を用いて第1の基板を照明し、該第1の基板上に描かれているパターンを結像光学系を介して第2の基板上に転写する投影露光方法であって、前記第1の基板上に描かれているパターンの特徴を表わす情報を抽出する工程と、該工程で抽出された情報に基づいて照明条件を変化させる工程と、上記第2の基板の位置情報を与えるマークを検出するマーク検出工程と、該マーク検出工程で得られる結果に基づいて上記第2の基板が停止すべき座標を演算する位置演算工程と、上記第2の基板を前記位置演算工程で求められた位置に逐次位置決めしていく工程と、前記結像光学系を介して第2の基板上に上記第1の基板上のパターンを転写する露光工程とからなることを特徴とする投影露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 311 M , H01L 21/30 311 S

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