特許

J-GLOBAL ID：200903082542909023

イオン供給源

発明者： サンティ,ウエイン,ジー.
出願人/特許権者： セインテック ピ-ティーワィ リミテッド
代理人 (1件)： 飯田 伸行
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-547197
公開番号（公開出願番号）：特表2004-514264
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：

フィルムのイオン支援蒸着に使用するためのイオン供給源(10)。このイオン供給源は、イオン化領域(13)と、イオン化領域へイオン化可能ガスを供給するためのガス供給源(22)と、ガスをイオン化させるためのガス励起システム(11,12)と、イオンをターゲットに向けられるイオン電流に変換するためのイオン作用手段と、イオン電流を断続的に創出するようにイオン供給源を制御するためのイオン供給源制御器を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

イオン供給源であって、 イオン化領域と、 該イオン化領域へイオン化可能ガスを供給するためのガス供給源と、 前記イオン化領域内でガスをイオン化させるためのガス励起システムと、 前記イオン化領域内で創出されたイオンを実質的にターゲットに向けられるイオン電流に変換するためのイオン作用手段と、 前記イオン電流を断続的に創出するように該イオン供給源を制御するためのイオン供給源制御器と、 から成ることを特徴とするイオン供給源。

IPC (6件)：

H01J27/08 ,  C23C14/32 ,  H01J37/04 ,  H01J37/08 ,  H01J37/317 ,  H05H1/24

FI (7件)：

H01J27/08 ,  C23C14/32 B ,  C23C14/32 E ,  H01J37/04 A ,  H01J37/08 ,  H01J37/317 E ,  H05H1/24

Fターム (10件)：

4K029BD00 ,  4K029DA04 ,  4K029DD01 ,  4K029DE02 ,  5C030DD04 ,  5C030DE02 ,  5C030DE05 ,  5C030DE09 ,  5C034CC01 ,  5C034CD02