特許

J-GLOBAL ID：200903082556042685

毛髪処理剤組成物

発明者： 青柳 賢治 ,  山本 晃弐 ,  山本 陽子 ,  小川 康昭
出願人/特許権者： 新日本理化株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-083467
公開番号（公開出願番号）：特開平6-107524
出願日： 1992年03月04日
公開日（公表日）： 1994年04月19日
要約：

【要約】【目的】保湿性に優れ、特にパーマなどでダメージを受け、水分の不足しがちな毛髪にしっとり感を与えるなど毛髪に効果的な使用感を与え、かつ皮膚や眼に対し刺激性の少ない毛髪処理剤組成物を開発する。【構成】N-ポリオキシエチレンアルキルエーテルエチル-N,N,N-トリアルキルアンモニウム塩型カチオン性界面活性剤または、N-ポリオキシエチレンアルキルエーテルエチル-N,N-ジアルキル-N-ベンジルアンモニウム塩型カチオン性界面活性剤の1種または2種以上を必須成分として含有する。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)式で示されるN-ポリオキシエチレンアルキルエーテルエチル-N,N,N-トリアルキルアンモニウム塩型カチオン性界面活性剤または、N-ポリオキシエチレンアルキルエーテルエチル-N,N-ジアルキル-N-ベンジルアンモニウム塩型カチオン性界面活性剤の1種または2種以上を必須成分として含有することを特徴とする毛髪処理剤組成物。【化1】(式中、R1 は炭素数8〜36からなるアルキル基、アルケニル基、アルキルアリール基、アラルキル基、R2、 R3 は同一又は異なって炭素数1〜3のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、R4 はベンジル基または炭素数1〜3のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、nは0〜25の正数、X-は陰イオン を示す。)

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-110610
  
• シヤンプー組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-206045   出願人：花王株式会社
• 特許第3082386号