特許

J-GLOBAL ID：200903082566529698

ブラックマトリクス基板およびそれを用いたマイクロレンズアレイシートの製造方法

発明者： 内田 哲夫 ,  鈴木 基之
出願人/特許権者： 東レ株式会社
代理人 (1件)： 伴 俊光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-031624
公開番号（公開出願番号）：特開平8-201795
出願日： 1995年01月26日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】 極めて容易な方法で、ブラックマトリクスとマイクロレンズが正確に位置合わせされたマイクロレンズアレイシートを作成できる方法と、それに用いられるブラックマトリクス基板を提供する。【構成】 透明基板1上に光線を吸収および/または反射する遮光層2を配設してなるブラックマトリクス基板において、該遮光層2の厚み1μm当たりの光学濃度が2.0以下であり、該遮光層2の最頂部の幅(A)と最底部の幅(B)との比A/Bが0〜0.5であるブラックマトリクス基板、および該ブラックマトリクス基板の遮光層が配設された面上に、硬化エネルギー線によって硬化する樹脂組成物を塗布または積層し、硬化エネルギー線を照射することによって所望部位を硬化せしめ、次いで未硬化部分を溶解除去する、マイクロレンズアレイシートの製造方法。

請求項（抜粋）：

透明基板上に光線を吸収および/または反射する遮光層を配設してなるブラックマトリクス基板において、該遮光層の厚み1μm当たりの光学濃度が2.0以下であり、該遮光層の最頂部の幅(A)と最底部の幅(B)との比A/Bが0〜0.5であることを特徴とするブラックマトリクス基板。

IPC (3件)：

G02F 1/1335 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/00