特許

J-GLOBAL ID：200903082570081626

シアリング干渉計測装置

発明者： 伊藤 達也
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 柏木 慎史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-013765
公開番号（公開出願番号）：特開2000-213920
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】 シアリング干渉縞を形成する一対の平行平板の近接対向する第1,2の反射面間の微小な間隔を高精度に測定でき、被検物の透過波面を高精度に求められるシアリング干渉計測装置を提供する。【解決手段】 シアリング干渉縞を形成するシアリング発生部1の平行平板2,3における第1,2の反射面2a,3a間の間隔dを間隔測定手段4により非接触方式で測定するようにすることで、平行平板2,3に歪み、変形を生じさせたり、傷を付けたりすることなく、第1,2の反射面2a,3a間の微小な間隔dを常に高精度に測定でき、被検物の透過波面を高精度に求めることができる。

請求項（抜粋）：

光源装置から射出され被検物を通過した可干渉な被検波をその光軸方向に移動可能な一対の近接対向した平行平板の内面による第1の反射面と第2の反射面とにより分離反射させ、分離反射させた両光束を僅かにずらして重畳させてシアリング干渉縞を形成するシアリング発生部を備え、このシアリング発生部により形成された前記シアリング干渉縞を測定することにより前記被検物の透過波面を測定するシアリング干渉計測装置において、前記平行平板における前記第1,2の反射面間の間隔を非接触で測定する間隔測定手段を備えることを特徴とするシアリング干渉計測装置。

IPC (5件)：

G01B 11/14 ,  G01B 9/02 ,  G01B 21/16 ,  G01J 9/02 ,  G01M 11/00

FI (6件)：

G01B 11/14 Z ,  G01B 11/14 H ,  G01B 9/02 ,  G01B 21/16 ,  G01J 9/02 ,  G01M 11/00 L

Fターム (58件)：

2F064AA09 ,  2F064AA15 ,  2F064BB04 ,  2F064CC10 ,  2F064EE08 ,  2F064FF01 ,  2F064GG20 ,  2F064GG64 ,  2F064HH01 ,  2F064HH02 ,  2F064HH03 ,  2F064HH05 ,  2F064HH07 ,  2F065AA22 ,  2F065AA53 ,  2F065BB03 ,  2F065BB05 ,  2F065BB22 ,  2F065BB24 ,  2F065CC00 ,  2F065CC22 ,  2F065DD16 ,  2F065EE00 ,  2F065FF02 ,  2F065FF31 ,  2F065FF53 ,  2F065GG04 ,  2F065HH03 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ15 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL00 ,  2F065LL05 ,  2F065LL15 ,  2F065LL30 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F069AA44 ,  2F069BB00 ,  2F069BB40 ,  2F069CC07 ,  2F069DD25 ,  2F069DD30 ,  2F069FF00 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069GG62 ,  2F069GG67 ,  2F069JJ01 ,  2F069MM02 ,  2F069MM23 ,  2F069MM34 ,  2G086FF06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭64-069933
  
• 特開昭56-073308