特許

J-GLOBAL ID：200903082591436947

縦型熱処理装置

発明者： 山本 博之 ,  大原 栄 ,  斉藤 幸正
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-037355
公開番号（公開出願番号）：特開2001-230212
出願日： 2000年02月16日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】 ガス導入管の基端部側における処理ガスの凝縮を防止すると共に、分散型ガス導入管を位置精度ないし再現性よく設置可能とする。【解決手段】 被処理体wを収容して熱処理する処理容器1にガス導入部2を有する金属製のマニホールド3を設け、このマニホールド3のガス導入部2からガス導入管5を介して処理ガスを被処理体wに供給するようにした縦型熱処理装置において、前記マニホールド3に前記ガス導入管5を保持する金属製の保持体4を設け、この保持体4に前記ガス導入部2とガス導入管5を連通するガス通路25が形成されている。

請求項（抜粋）：

被処理体を収容して熱処理する処理容器にガス導入部を有する金属製のマニホールドを設け、このマニホールドのガス導入部からガス導入管を介して処理ガスを被処理体に供給するようにした縦型熱処理装置において、前記マニホールドに前記ガス導入管を保持する金属製の保持体を設け、この保持体に前記ガス導入部とガス導入管を連通するガス通路が形成されていることを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/22 511 S ,  H01L 21/205

Fターム (8件)：

5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EB02 ,  5F045EB03 ,  5F045EC02 ,  5F045EC07 ,  5F045EE01 ,  5F045EF03