特許

J-GLOBAL ID：200903082601371784

高周波温熱治療装置

発明者： 久保 誠雄 ,  笠井 英治
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 中村 茂信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-047124
公開番号（公開出願番号）：特開平5-245216
出願日： 1992年03月04日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：

【要約】【目的】 ホットスポットが生じることがなく、且つ深部加温の効率が良い高周波温熱治療装置を提供する。【構成】 高周波磁界を被加温体に照射して被加温体10に渦電流を生じさせる複数対の磁極11-1〜11-4を備える高周波温熱治療装置において、前記複数対の磁極のうち隣設関係にある磁極間(11-1と11-2,11-3と11-4)に設置され、両磁極間の磁束を吸収する磁気シールド板12を備える。

請求項（抜粋）：

高周波磁界を被加温体に照射して被加温体に渦電流を生じさせる磁極と、前記被加温体内の表面部付近の渦電流を吸収する吸収ボーラスとを備える高周波温熱治療装置において、前記吸収ボーラスの途中部分で電気的接続を接断するスイッチ手段と、このスイッチ手段の動作を制御する制御手段とを備えることを特徴とする高周波温熱治療装置。