特許
J-GLOBAL ID：200903082608870042
ポリシランおよびパターン形成方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-336655
公開番号（公開出願番号）：特開平11-060735
出願日： 1997年11月21日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：
【要約】【課題】 保存安定性に優れ、有機溶媒に可溶で塗布法により容易に薄膜にすることができ、機械的強度および耐熱性に優れた薄膜が得られるポリシランを提供するとともに、このポリシランを含み、露光時に反射防止機能を示し、レジストに対するエッチング速度比が大きく、しかもドライエッチング耐性にも優れたエッチングマスクを提供する。【解決手段】 一般式[LPS-I]で表される繰り返し単位(ただし、Aは2価の有機基、R1 は水素原子または置換もしくは非置換の炭化水素基であり、同一でも異なっていてもよい。)を有するポリシラン。【化1】
請求項（抜粋）：
下記一般式[LSP-I]で表される繰り返し単位【化1】(ここで、Aは2価の有機基、R1 は水素原子ならびに置換または非置換の炭化水素基およびシリル基から選択され、同一でも異なっていてもよい。)を有することを特徴とするポリシラン。
IPC (2件)：
C08G 77/60
, G03F 7/075 511
C08G 77/60
, G03F 7/075 511
