特許
J-GLOBAL ID：200903082652034197
エピスルフィド化合物およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-362375
公開番号（公開出願番号）：特開2003-160582
出願日： 2001年11月28日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：
【要約】【課題】 屈折率およびアッベ数の高い光学材料の原料として有用な新規のエピスルフィド化合物、およびそれを効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 一般式 (1)で示されるエピスルフィド化合物、【化1】(式中nは0〜2の整数を示す。)およびメルカプト基を有するエピスルフィド化合物と2,4,6-トリメチレン-1,3,5-トリチアンとを反応させて一般式 (1)で示されるエピスルフィド化合物を製造する方法である。
請求項（抜粋）：
一般式 (1)で示されるエピスルフィド化合物。【化1】(式中nは0〜2の整数を示す。)
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
4C063AA05
, 4C063BB08
, 4C063CC98
, 4C063DD91
, 4C063EE10
