特許
J-GLOBAL ID:200903082657185894
熱処理システム及び熱処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木村 満
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-316638
公開番号(公開出願番号):特開2002-252220
出願日: 2001年10月15日
公開日(公表日): 2002年09月06日
要約:
【要約】【課題】 経時変化や外部環境の変化の影響を受けずに、適切に熱処理を行う。【解決手段】 複数のヒータを独立に駆動して、各ヒータで定義されるゾーン内の被処理体の温度を予め設定されたセットポイントに一致するように制御して、成膜処理を実行する。成膜処理が終了すると、数式1に基づいて各ゾーンのセットポイントを更新する。【数1】各ゾーンの新セットポイント=前回の同一ゾーンのセットポイント-[同一ゾーンで成膜された膜の膜厚-全ゾーンで成膜された膜の膜厚の平均値]×同一ゾーンの今回のセットポイントと前回のセットポイントとの差/同一ゾーンの今回の成膜処理での膜厚と前回の成膜処理での膜厚との差。
請求項(抜粋):
被処理体の温度をセットポイントに一致するように制御して第n(nは自然数)回目の熱処理を実行し、第n回目の熱処理の結果に基づいて、演算処理により、第n+1回目の熱処理におけるセットポイントを決定して、新たに決定した新セットポイントにセットポイントを更新して、第n+1回の熱処理を実行する、ことを特徴とする熱処理方法。
IPC (5件):
H01L 21/31
, B01J 19/00 301
, G05D 23/30
, F27B 5/18
, F27D 19/00
FI (5件):
H01L 21/31 B
, B01J 19/00 301 Z
, G05D 23/30
, F27B 5/18
, F27D 19/00 A
Fターム (42件):
4G075AA30
, 4G075AA63
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075BD14
, 4G075CA02
, 4G075CA13
, 4G075CA65
, 4G075DA02
, 4G075DA04
, 4G075EA01
, 4G075EA06
, 4G075EB01
, 4G075ED13
, 4G075FB06
, 4G075FC06
, 4K056AA09
, 4K056BB06
, 4K056CA18
, 4K056FA04
, 4K061AA01
, 4K061BA11
, 4K061DA05
, 4K061GA02
, 5F045BB03
, 5F045DP19
, 5F045EK06
, 5F045EK22
, 5F045GB16
, 5F045GB17
, 5H323AA05
, 5H323CA06
, 5H323CB02
, 5H323CB42
, 5H323CB44
, 5H323DA04
, 5H323DA05
, 5H323DB15
, 5H323GG02
, 5H323JJ06
, 5H323LL21
, 5H323NN03
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