特許
J-GLOBAL ID:200903082671854138

コロイダルシリカ含有液の膜処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松月 美勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-139050
公開番号(公開出願番号):特開平6-320158
出願日: 1993年05月17日
公開日(公表日): 1994年11月22日
要約:
【要約】【目的】コロイダルシリカ含有液を、高い透過流束のもとで、かつ洗浄による優れた透過流束回復率で膜処理できるコロイダルシリカ含有液の膜処理方法を提供する。【構成】コロイダルシリカ含有液を膜分離装置により濃縮処理する方法において、膜に負荷電性膜を使用する。
請求項(抜粋):
コロイダルシリカ含有液を膜分離装置により濃縮処理する方法において、膜に負荷電性膜を使用することを特徴とするコロイダルシリカ含有液の膜処理方法。
IPC (5件):
C02F 1/44 ZAB ,  B01D 61/02 ZAB ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/14 ZAB ,  B01D 61/14 500
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開2045-159504
  • 特開平4-118034
  • 特開2045-159504
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