特許
J-GLOBAL ID:200903082679785135
光渦発生装置、微小物体操作装置、天体探査装置および偏光渦変換素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森 幸一
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2006315092
公開番号(公開出願番号):WO2007-013648
出願日: 2006年07月25日
公開日(公表日): 2007年02月01日
要約:
コヒーレント光を円偏光に変換する第1の光学系と、この第1の光学系から射出される円偏光が入射するように配置された偏光渦変換素子と、この偏光渦変換素子から射出される光が入射するように配置された第2の光学系とにより光渦発生装置を構成する。偏光渦変換素子は、直線複屈折性および/または直線二色性を有し、その偏光特性は座標の中心から同一半径上にある各点では主軸の方位角を除いて一定であり、かつその上の各点の主軸の方位角が座標の方位角に比例するものである。第2の光学系は、偏光渦変換素子から射出される光から上記の円偏光と逆向きの円偏光成分を抽出する。
請求項(抜粋):
コヒーレント光を円偏光に変換する第1の光学系と、
上記第1の光学系から射出される円偏光が入射するように配置された偏光渦変換素子であって、直線複屈折性および/または直線二色性を有し、その偏光特性は座標の中心から同一半径上にある各点では主軸の方位角を除いて一定であり、かつその上の各点の主軸の方位角が座標の方位角に比例するものと、
上記偏光渦変換素子から射出される光が入射するように配置された第2の光学系であって、上記偏光渦変換素子から射出される光から上記円偏光と逆向きの円偏光成分を抽出するものとを有することを特徴とする光渦発生装置。
IPC (4件):
G02B 27/28
, G02B 27/02
, G02F 1/13
, G02B 5/30
FI (4件):
G02B27/28 Z
, G02B27/02 Z
, G02F1/13 505
, G02B5/30
Fターム (21件):
2H088EA47
, 2H088GA02
, 2H088HA17
, 2H088HA18
, 2H088JA04
, 2H088MA20
, 2H149AA00
, 2H149BA02
, 2H149BA05
, 2H149BB00
, 2H149DA02
, 2H149DA04
, 2H149DA12
, 2H149DB22
, 2H149FA10Y
, 2H149FB06
, 2H199AB01
, 2H199AB23
, 2H199AB47
, 2H199AB52
, 2H199AB61
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