特許
J-GLOBAL ID：200903082686809457
電子放出素子、電子源、表示素子及び画像形成装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-296017
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115433
出願日： 1995年10月20日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソグラフィー技術を用いることなく、電子放出特性に優れた電子放出素子の製造方法並びに該電子放出素子を用いた電子源、表示素子及び画像形成装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 対向する電極間に電子放出部を含む導電性薄膜を形成する電子放出素子の製造方法において、前記導電性薄膜を形成する工程が、無電解メッキの核となる材料を含む溶液を液滴の状態で付与し、次いで前記薄膜の核となる金属塩を含む無電解メッキ溶液浴組成に浸漬して前記薄膜を形成することを特徴とする電子放出素子の製造方法並びに電子源、表示素子及び画像形成装置の製造方法。
請求項（抜粋）：
対向する電極間に電子放出部を含む導電性薄膜を形成する電子放出素子の製造方法において、前記導電性薄膜を形成する工程が、無電解メッキの核となる材料を含む溶液を液滴の状態で付与し、次いで前記薄膜の核となる金属塩を含む無電解メッキ溶液浴組成に浸漬して前記薄膜を形成することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
IPC (3件)：
H01J 9/02
, H01J 1/30
, H01J 31/12
H01J 9/02 B
, H01J 1/30 B
, H01J 31/12 C
