特許
J-GLOBAL ID：200903082692566566
投影光学系の収差計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001010154
公開番号（公開出願番号）：WO2002-042728
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2002年05月30日
要約：
高精度に投影光学系の収差を計測できる収差計測方法及び装置である。レチクル(9)上の微少計測パターン(10a)及び大計測パターン(10b)を互いに可干渉性を有する照明光で照明する。計測パターン(10a及び10b)を透過した光束はそれぞれ計測対象の投影光学系(PL)を透過して、基準パターン板(12)上の大基準パターン(13a)及び微少基準パターン(13b)上に計測パターンの像を形成する。基準パターン(13a及び13b)を透過した光束はレンズ系(15)を経て撮像素子(16)上に干渉縞を形成する。この干渉縞の状態から投影光学系の波面収差を計測する。
請求項（抜粋）：
第1面上のパターンの像を第2面上に形成する投影光学系の収差計測方法において、
前記第1面上に第1の計測パターンと該第1の計測パターンよりも大きい第2の計測パターンとを配置し、
前記第2面又は該第2面に共役な面上に第1の基準パターンと該第1の基準パターンよりも小さい第2の基準パターンとを配置し、
前記第1及び第2の計測パターンの像をそれぞれ前記投影光学系を介して前記第1及び第2の基準パターン上に形成し、
前記2つの基準パターンの配置面に対する光学的フーリエ変換面上で前記2つの基準パターンを通過した光束の光量分布を計測し、
該計測結果より前記投影光学系の収差計測を行うことを特徴とする投影光学系の収差計測方法。
IPC (4件)：
G01M11/02
, G02B5/18
, G03F7/22
, H01L21/027
G01M11/02 B
, G02B5/18
, G03F7/22 H
, H01L21/30 515D
