特許
J-GLOBAL ID:200903082715631182

中心座標解析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-145295
公開番号(公開出願番号):特開平10-332370
出願日: 1997年06月03日
公開日(公表日): 1998年12月18日
要約:
【要約】【課題】ターゲット用シールを貼る必要がなく、人が近づくことが困難な場所にある円形対象物体の座標確定が可能な中心座標解析装置を提供すること。【解決手段】円形物体(1)の写真撮影を行ない、その写真を解析することにより前記円形物体(1)の三次元座標を解析する写真計測を用いた中心座標解析装置において、前記円形物体(1)の3箇所以上のエッヂ部にレーザースポット光を照射する照射手段と、前記円形物体(1)を少なくとも異なる3方向から写真撮影する撮影手段と、この撮影手段で撮影された写真から前記レーザースポット光の輝点である前記エッヂ部の三次元座標を求める演算手段(6)と、この演算手段(6)で求めた3点の三次元座標から、これら3点に外接する外接円の中心位置を求める手段(7)と、を具備。
請求項(抜粋):
円形物体の写真撮影を行ない、その写真を解析することにより前記円形物体の三次元座標を解析する写真計測を用いた中心座標解析装置において、前記円形物体の3箇所以上のエッヂ部にレーザースポット光を照射する照射手段と、前記円形物体を少なくとも異なる3方向から写真撮影する撮影手段と、この撮影手段で撮影された写真から前記レーザースポット光の輝点である前記エッヂ部の三次元座標を求める演算手段と、この演算手段で求めた3点の三次元座標から、これら3点に外接する外接円の中心位置を求める手段と、を具備したことを特徴とする中心座標解析装置。
IPC (2件):
G01C 11/06 ,  G01B 11/00
FI (2件):
G01C 11/06 ,  G01B 11/00 H

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