特許
J-GLOBAL ID：200903082731054810
シリコンウェハの洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-112556
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198550
出願日： 1992年05月01日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：
【要約】【目的】複数枚のシリコンウェハの両面を均一かつ高い清浄度でエッチング及びリンス処理して洗浄するシリコンウェハの洗浄装置に提供するものである。【構成】連通部を有する隔壁により上下に区画され、上部に霧発生室、下部に処理室がそれぞれ形成されたチャンバと、前記隔壁の連通部を開閉するシャッタを有する開閉手段と、前記霧発生室内にエッチング性洗浄液の霧を発生するための高周波振動部材と、前記高周波振動部材に高周波を供給する高周波発振器と、前記処理室内に複数のシリコンウェハを立てて収納した収納部材を搬送する搬送手段と、前記チャンバ及び前記シャッタに取り付けられた複数のガス噴射手段と、前記チャンバに取り付けられ、純水を前記収納部材の前記各シリコンウェハ間に向けて噴射する純水噴射手段と、前記処理室内に配置された排気手段とを具備したことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
連通部を有する隔壁により上下に区画され、上部に霧発生室、下部に処理室がそれぞれ形成されたチャンバと、前記隔壁の連通部を開閉するためのシャッタを有する開閉手段と、前記チャンバに取付けられ、前記霧発生室内にエッチング性洗浄液の霧を発生するための高周波振動部材と、前記高周波振動部材に高周波を供給するための高周波発振器と、前記処理室内に複数のシリコンウェハを立てて収納した収納部材を搬送するための搬送手段と、前記チャンバ及び前記シャッタに取り付けられ、ガスを前記収納部材の前記各シリコンウェハ間に向けて噴射するための複数のガス噴射手段と、前記チャンバに取り付けられ、純水を前記収納部材の前記各シリコンウェハ両面に向けて噴射するための純水噴射手段と、前記搬送手段により搬送される前記収納部材の下方に位置する前記処理室内に配置された排気手段とを具備したことを特徴とするシリコンウェハの洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/306
