特許
J-GLOBAL ID：200903082743886579
エキシマレーザ発振装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
橋爪 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-257520
公開番号（公開出願番号）：特開平5-347448
出願日： 1992年06月12日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】 発光素子と受光素子とを用いたハロゲンガス補給手段を備えたエキシマレーザ発振装置において、ハロゲンガス補給を高精度に行えるようにする。【構成】 受光素子2が受光してなる発光素子1からのレーザガス透過光の光強度Iから該レーザガス中のハロゲンガス濃度Cを求め、該ハロゲンガス濃度Cが目標濃度Coとなるように、レーザガス内にハロゲンガスを補給するハロゲンガス補給手段を備えてなるエキシマレーザ発振装置において、該ハロゲンガス補給手段は、ハロゲンガス濃度Cを発光素子1と受光素子2とのウインド11、21の汚れ等に基づく光強度の低下分で補正したのち、該補正済みハロゲンガス濃度Cが目標濃度Coとなるように、レーザガス内にハロゲンガスを補給する構成とした。
請求項（抜粋）：
受光素子2が受光してなる発光素子1からのレーザガス透過光の光強度Iから該レーザガス中のハロゲンガス濃度Cを求め、該ハロゲンガス濃度Cが目標濃度Coとなるように、レーザガス内にハロゲンガスを補給するハロゲンガス補給手段を備えてなるエキマレーザ発振装置において、該ハロゲンガス補給手段は、ハロゲンガス濃度Cを発光素子1と受光素子2とのウインド11、21の汚れ等に基づく光強度の低下分で補正したのち、該補正済みハロゲンガス濃度Cが目標濃度Coとなるように、レーザガス内にハロゲンガスを補給する構成を特徴とするエキマレーザ発振装置。
IPC (3件)：
H01S 3/097
, H01L 21/66
, H01S 3/134
