投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-245170
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062878
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】【目的】本発明はフオトマスク上に形成されたパターンを感光基板上に投影する投影露光装置において、フオトマスク上の異なる領域に形成されたパターンの投影像を感光基板上で接続するにつき、上記パターンに形成された接続用の重複領域がフオトマスク上のどの位置にあつても当該重複領域の不整合を生じさせることなく確実にパターンを接続しようとするものである。【構成】フオトマスク上のパターン配置領域に応じて感光基板上への投影画面に生じる像歪及び、投影光学系を駆動した際の投影画面の変化及び、感光基板上に投影しようとするパターンの配置等の情報を予め記憶しておき、当該諸情報に基づいて投影光学系を駆動することにより、投影光学系の残存歪曲収差を補正しつつ、投影像の境界領域におけるパターンの接続を良好に維持することができる。

請求項（抜粋）：

フオトマスク上のパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、上記感光基板及び上記フオトマスクの位置を相対的に移動するステージとを有し、上記投影光学系による上記フオトマスクのパターン像を上記感光基板上の第1の領域に投影露光する第1露光と、上記ステージを所定量移動させることによつて上記感光基板上の上記第1領域に隣接する第2領域に上記フオトマスクのパターンと同一又は異なるパターンを投影露光する第2露光とを行う投影露光装置において、上記投影光学系の像歪を補正する補正手段と、上記隣接パターン像の接続を確実にするように上記補正手段の補正量を演算する演算手段と、上記演算手段の演算結果に基づいて上記補正手段を制御する制御手段とを具えることを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 7/22 , H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/30 311 M , H01L 21/30 301 G

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