特許
J-GLOBAL ID：200903082754800323
常圧CVD装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-161765
公開番号（公開出願番号）：特開平5-331646
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：
【要約】【目的】 常圧CVD法によりウェハに成膜する膜厚の均一化を図る。【構成】 ウェハの表面に原料ガスを供給してウェハ表面に成膜を行う常圧CVD装置において、ウェハ2を原料ガスの供給ヘッド1に設けたガス供給口7に対して自転させる機構(モータ6)と、直線運動をさせる機構9を備える。ウェハ2を自転及び直線運動させることで、ガス供給口7からウェハ2の表面に供給されるガスのばらつきを抑制し、均一な膜厚の成膜を可能とする。
請求項（抜粋）：
ウェハの表面に原料ガスを供給してウェハ表面に成膜を行う常圧CVD装置において、前記ウェハを原料ガスの供給ヘッドに対して自転させる機構と直線運動をさせる機構を備えることを特徴とする常圧CVD装置。
IPC (3件)：
C23C 16/44
, C23C 16/54
, H01L 21/205
