特許
J-GLOBAL ID：200903082755102727
シリカガラス粉末及びその製法並びにこれを用いたシリカガラス成形体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-220083
公開番号（公開出願番号）：特開平5-004827
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：
【要約】【構成】ゾル・ゲル法によりえられた乾燥シリカゲル粉末を、1000〜1400°Cの温度において焼成してシリカガラス粉末を製造するに当り、該焼成期間中、少なくとも5時間以上の間、水蒸気を10〜100容量%含有するガス雰囲気中で焼成を行なう低シラノール含量シリカガラス成形体の製造に適したシリカガラス粉末の製造法及びそれによって得られるシリカガラス粉末並びにこれを用いたシリカガラス成形体。【効果】本発明で得られるシリカガラス粉末を溶融成形して得られるシリカガラス成形体は、高純度で低含水量、かつ、発泡もなく透明性も良好なことから本発明のシリカガラス粉末及びシリカガラス成形体は半導体製造分野に使用される超高純度シリカガラス製品の原料及び該製品として好適である。
請求項（抜粋）：
ゾル・ゲル法により得られた乾燥シリカゲル粉末を、1000〜1400°Cの温度において焼成してなるシリカガラス粉末であって、該焼成期間中、少なくとも5時間以上の間、水蒸気を10〜100容量%含有するガス雰囲気中で焼成されてなることを特徴とする低シラノール含量シリカガラス成形体の製造に適したシリカガラス粉末。
IPC (5件)：
C03B 19/12
, C01B 33/158
, C03B 8/02
, C03B 19/09
, C03B 20/00
