特許

J-GLOBAL ID：200903082759703830

循環式流動層予備還元炉の粒子循環装置

発明者： 佐藤 和彦 ,  板谷 宏 ,  金綱 照夫
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-138713
公開番号（公開出願番号）：特開平5-331516
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】【目的】 循環式流動層予備還元炉操業において、粉状鉱石を、効率良く、また逆流ガス発生のおそれなしに安定して循環流動させる。【構成】 竪型の循環装置本体とその下部及び上部にそれぞれ斜設された入側斜管及び出側斜管とからなる粒子循環装置にといて、該装置本体の横断面形状を矩形とし、かつこの矩形断面の長辺Aと短辺Bとの比R1 (A/B)を 1.2〜5の範囲に調整する。

請求項（抜粋）：

還元ガスを導入して粒状鉱石を循環流動させつつ予備還元する循環式流動層予備還元炉の粒子循環装置であって、竪型の循環装置本体とその下部及び上部にそれぞれ斜設された入側斜管及び出側斜管とからなり、該循環装置本体の横断面形状を矩形とし、かつこの矩形断面の長辺Aと短辺Bとの比R1(A/B)が 1.2〜5の範囲を満足することを特徴とする循環式流動層予備還元炉の粒子循環装置。

IPC (2件)：

C21B 11/02 ,  C21B 13/02