反射防止層の冷間堆積方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 関根宣夫 , 西山雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-546785
公開番号（公開出願番号）：特表2004-514939
出願日： 2001年11月26日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：

本発明は、真空蒸着によって150°C未満の温度で有機基体(1)上に反射防止堆積層を作る方法に関するもので、この方法はMgF2とは異なる屈折率の材料の少なくとも1つの層(4、4’)を基体に堆積させること、こうして被覆された基体の表面を前処理すること、及びイオンアシストなしに外側のMgF2層を堆積させることからなる工程を含む。得られる有機基体上の反射防止堆積層は、すぐれた密着性及びすぐれた耐ひっかき性を示す。本発明は眼用レンズに応用可能である。

請求項（抜粋）：

150°C未満の温度で真空蒸着によって有機基体(1)上に多層反射防止被膜を生成する方法であって、 MgF2とは異なる屈折率の材料の少なくとも1つの層(4、4’)を、前記基体に堆積させ、被覆した前記基体の表面を前処理し、そしてイオンアシストなしに、MgF2の外側層(5)を堆積させること、を含む、反射防止被膜を生成する方法。

IPC (3件)：

G02B1/11 , B32B7/02 , C23C14/06

FI (3件)：

G02B1/10 A , B32B7/02 103 , C23C14/06 P

Fターム (55件)：

2K009AA02 , 2K009BB24 , 2K009CC03 , 2K009CC06 , 2K009CC14 , 2K009DD03 , 2K009DD07 , 4F100AA05B , 4F100AA06B , 4F100AA17B , 4F100AA17C , 4F100AA18 , 4F100AA19 , 4F100AA20 , 4F100AA21 , 4F100AB09B , 4F100AB09C , 4F100AK01A , 4F100AK45 , 4F100AK45A , 4F100AR00B , 4F100AR00C , 4F100BA03 , 4F100BA06 , 4F100BA07 , 4F100EH66 , 4F100EH66B , 4F100EH66C , 4F100EJ53B , 4F100EJ53C , 4F100EJ61B , 4F100EJ61C , 4F100GB41 , 4F100GB90 , 4F100JK12 , 4F100JK12B , 4F100JK12C , 4F100JN02 , 4F100JN06B , 4F100JN06C , 4F100JN18 , 4F100JN18B , 4F100JN18C , 4K029AA11 , 4K029BA42 , 4K029BA43 , 4K029BA46 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029CA01 , 4K029CA09 , 4K029DB05 , 4K029EA08 , 4K029FA04 , 4K029GA03

引用特許：

審査官引用 (5件)

反射防止物品およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-213949 出願人：東レ株式会社
特開昭63-113401
特開平3-221901

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