特許
J-GLOBAL ID：200903082785456957
投影露光装置及び露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-263521
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120110
出願日： 1992年10月01日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 コンタクトホールパターンの投影露光時の焦点深度を拡大する。【構成】 投影光学系PLの瞳面の中心円形領域を通過する結像光束LFaとその周辺の輪帯状領域を通過する結像光束LFbとの偏光状態を互いに異ならせる偏光板、1/2波長板、1/4波長板、又は旋光物質を瞳面に配置することにより、少なくとも2つの結像光束(LFa、LFb)をインコヒーレントな状態に変換するSFINCS法を適用する。
請求項（抜粋）：
微細なパターンが形成されたマスクを露光用の照明光で照射する照明手段と、前記マスクのパターンから発生した光を入射して前記パターンの像を感応基板上に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記マスクと前記感応基板との間の結像光路内のフーリエ変換面、又はその近傍面に配置され、該フーリエ変換面上、又はその近傍面上の前記投影光学系の光軸を中心とする円形領域内に分布する結像光とその外側の領域に分布する結像光との間の偏光状態を互いに異ならせる偏光状態制御手段を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
